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分散劑解決光刻膠中固體顆粒分散難題

在光刻膠制造中，光引發(fā)劑、顏料等固體顆粒的分散均勻性直接影響成膜質量和光固化效率。凱密泰克（Chemi Tech）開發(fā)的專用分散劑通過獨特的分子結構設計，有效降低顆粒表面能，防止團聚現象。其作用機制包括：

錨固基團吸附：分散劑中的極性基團緊密包覆顆粒表面，形成空間位阻層，減少顆粒間范德華力。

溶劑化鏈延伸：在樹脂體系中展開的長鏈結構維持分散穩(wěn)定性，尤其在高速攪拌和長期儲存中抑制沉降。

光刻膠應用案例：

某半導體光刻膠企業(yè)采用凱密泰克分散劑處理納米級光引發(fā)劑（粒徑≤200 nm）。結果顯示：

分散后顆粒粒徑分布標準差下降至±15 nm（原為±50 nm）；

光固化效率提升30%，因顆粒均勻分布增強了紫外光吸收一致性；

光刻線條邊緣粗糙度（LER）降低至5 nm以下，滿足DUV光刻精度需求。

技術優(yōu)勢：

兼容性強：適用于丙烯酸酯、環(huán)氧樹脂等主流光刻膠體系；

低添加量：僅需0.5~2 wt%即可實現長效分散；

耐溫性：在光刻膠烘烤工序（80~120℃）中保持性能穩(wěn)定。